ASTM B861-06 هدف أنبوب التيتانيوم الإلكتروني

133OD * 125ID * 2940L تشمل شفة أنبوب التيتانيوم الهدف التيتانيوم Gr2 ASTM B861-06 أ المادة المستهدفة طلاء الفراغ

يرتبط اتجاه تطوير تكنولوجيا المواد المستهدفة ارتباطًا وثيقًا باتجاه تطوير تقنية الأغشية الرقيقة في الصناعات التحويلية.مع التحسين التكنولوجي للصناعات المطبقة في منتجات أو مكونات الأغشية الرقيقة ، يجب أيضًا تغيير التكنولوجيا المستهدفة.في جميع صناعات التطبيقات ، تتطلب صناعة أشباه الموصلات متطلبات الجودة الأكثر صرامة لأفلام الرش المستهدفة.الآن تم تصنيع رقاقة السيليكون مقاس 12 بوصة (300) ، ويتناقص عرض الوصلة البينية.تتطلب الشركات المصنعة لرقائق السيليكون حجمًا كبيرًا ونقاءًا عاليًا وفصلًا منخفضًا وحبوبًا دقيقة للهدف ، الأمر الذي يتطلب أن تكون المادة المستهدفة ذات بنية مجهرية أفضل.يعتبر قطر وانتظام الجزيئات البلورية من العوامل الرئيسية التي تؤثر على معدل ترسب الأفلام.كانت شاشات العرض المسطحة (FPD) موجودة في السوق لشاشات الكمبيوتر وأجهزة التلفزيون التي تهيمن عليها أنابيب أشعة الكاثود (CRT) على مر السنين.كما أنه سيدفع التكنولوجيا وطلب السوق لأهداف ITO.في الوقت الحاضر ، هناك نوعان من أهداف iTO.أحدهما هو تلبيد أكسيد الإنديوم النانوي ومسحوق أكسيد القصدير ، والآخر هو هدف سبائك القصدير الإنديوم.يمكن إنتاج الأغشية الرقيقة ITO بواسطة الرش التفاعلي للتيار المستمر ، لكن السطح المستهدف سوف يتأكسد ويؤثر على معدل الرش ، وليس من السهل الحصول على هدف ذهبي كبير الحجم.فيما يتعلق بتقنية التخزين ، يتطلب تطوير قرص صلب عالي الكثافة وسعة كبيرة كمية كبيرة من مادة غشاء مقاومة مغناطيسية عملاقة.يستخدم الفيلم المركب متعدد الطبقات CoF ~ Cu على نطاق واسع في هياكل الأغشية الرقيقة المقاومة للمغناطيسية العملاقة في الوقت الحاضر.

المزايا الرئيسية
قوة منخفضة المواصفات عالية الكثافة
طلب التخصيص حسب الطلب
مقاومة ممتازة للتآكل
مقاومة جيدة للحرارة
أداء ممتاز في درجات الحرارة المنخفضة
خصائص حرارية جيدة
معامل مرونة منخفض