133mm * 125mm * 840mm التيتانيوم أنبوب سلس الهدف مقاومة التآكل

أنبوب التيتانيوم الهدف طلاء الفراغ الهدف 133OD * 125ID * 840 أنبوب غير ملحوم ASTM B861-06 أ

هدف الطلاء هو مصدر رشاش يشكل أغشية وظيفية مختلفة على الركيزة عن طريق رش المغنطرون أو الطلاء متعدد الأيونات أو أنواع أخرى من أنظمة الطلاء في ظل ظروف تكنولوجية مناسبة.ببساطة ، المادة المستهدفة هي المادة المستهدفة لقصف الجسيمات المشحونة عالية السرعة.عند استخدامه في أسلحة الليزر عالية الطاقة ، تتفاعل كثافات الطاقة المختلفة وأشكال الموجات المختلفة والأطوال الموجية المختلفة لليزر مع أهداف مختلفة ، وسيتم إنتاج تأثيرات قتل وتدمير مختلفة.على سبيل المثال ، طلاء بخاخ المغنطرون التبخيري عبارة عن طلاء تبخر ساخن ، فيلم ألومنيوم ، إلخ. تغيير المواد المستهدفة المختلفة (مثل الألومنيوم والنحاس والفولاذ المقاوم للصدأ والتيتانيوم والنيكل المستهدف ، وما إلى ذلك) ، يمكن أن تحصل على أنظمة أفلام مختلفة (مثل فائقة الصلابة ، فيلم سبيكة مقاومة للاهتراء ، مضاد للتآكل ، إلخ.)
في السنوات الأخيرة ، أثرت شاشة العرض المسطحة (FPD) بشكل كبير على شاشة الكمبيوتر وسوق التلفزيون الذي يهيمن عليه أنبوب أشعة الكاثود (CRT) ، والذي سيدفع أيضًا التكنولوجيا وطلب السوق من المواد المستهدفة ITO.يوجد نوعان من أهداف iTO اليوم.واحد متكلس بخلط أكسيد الإنديوم ومسحوق أكسيد القصدير في حالة نانومتر ، والآخر متكلس بواسطة هدف سبائك القصدير الإنديوم.يمكن تحضير أغشية ITO بالرشاشات التفاعلية الحالية المباشرة على أهداف سبائك الإنديوم والقصدير ، ولكن السطح المستهدف سيتأكسد وسيتأثر معدل الرش ، ومن الصعب الحصول على هدف ذهبي كبير الحجم.في الوقت الحاضر ، يتم اعتماد الطريقة الأولى بشكل عام لإنتاج المواد المستهدفة ITO ، باستخدام طلاء الرش التفاعلي L} IRF.لديها معدل ترسيب سريع.ويمكن التحكم بدقة في سماكة الفيلم ، والموصلية العالية ، والاتساق الجيد للفيلم ، والالتصاق القوي بالركيزة والمزايا الأخرى ل.لكن تحديد الأهداف أمر صعب لأن أكسيد الإنديوم وأكسيد القصدير لا يتلبدان معًا بسهولة.بشكل عام ، يتم استخدام ZrO2 و Bi2O3 و CeO كمضافات تلبيد ، ويمكن الحصول على المواد المستهدفة بكثافة 93٪ ~ 98٪ من القيمة النظرية.يرتبط أداء أفلام ITO التي تم تشكيلها بهذه الطريقة بشكل كبير بالإضافات.استخدم العلماء اليابانيون Bizo كمادة مضافة ، و Bi2O3 ذاب عند 820Cr ، وتم تطاير جزء من درجة حرارة التلبيد التي تتجاوز L500 ، بحيث يمكن الحصول على هدف ITO النقي نسبيًا في ظل ظروف تلبيد الطور السائل.والمواد الخام للأكسيد ليست بالضرورة جسيمات نانوية ، والتي يمكن أن تبسط العملية المبكرة.تبلغ مقاومة فيلم ITO الذي تم الحصول عليه باستخدام أهداف مثل Chuan 8.1 × 10n-cm ، وهي قريبة من مقاومة فيلم ITO النقي.حجم FPD والزجاج الموصّل ساخن جدًا ، ويمكن أن يصل عرض الزجاج الموصّل إلى 3133_.من أجل تحسين معدل استخدام الهدف ، تم تطوير أهداف ITO ذات الأشكال المختلفة ، مثل الأسطوانية.في عام 2000 ، قامت لجنة الدولة للتخطيط التنموي ووزارة العلوم والتكنولوجيا بتضمين أهداف ITO الكبيرة في دليل المجالات الرئيسية لصناعة المعلومات ذات الأولوية للتطور الحالي.

سمات

1. كثافة منخفضة وقوة عالية
2. حسب الطلب وفقا للرسومات المطلوبة من قبل العملاء
3. مقاومة قوية للتآكل
4. مقاومة قوية للحرارة
5. مقاومة درجات الحرارة المنخفضة
6. مقاومة الحرارة